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来源、主体与时间与首次落库记录一致。

文章 国内首个半导体工艺保护流体材料重大突破
信任等级 Aggregate
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来源 https://www.leiphone.com/category/industrynews/PHr6tfngmZX7R5db.html
创建时间 Tuesday, 3 November 2026 - 21:00
已记录哈希 64ddbfebb98d41aaf58271919def44d97d3aa366759e2b449218dc96c1ef7a8a
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哈希算法:sha256(来源URL|主体ID|创建时间戳),主体缺失时主体ID为 0。

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